In industria fabricandi semiconductor, ut molis molis pergit abhorrere, depositio technologiae technologiae cinematographicae inauditae provocationes propositae sunt. Stratum atomicum Depositio (ALD), sicut tenuis pellicularum depositio technologiae quae accuratam potestatem in gradu atomico consequ......
Lege plusPropositum est aedificare ambitus integros seu machinas semiconductores in strato turpi crystallino perfecto. Epitaxia (epi) processum in semiconductore fabricando intendit deponere subtilissimum stratum unius-crystallinum, plerumque circiter 0,5 ad 20 microns, in uno-crystallino subiecto. Processus......
Lege plusPraecipua differentia inter epitaxiam et stratum atomicum depositionis (ALD) consistit in machinationibus cinematographicis et condicionibus operantis. Epitaxia refertur ad processum crescendi velum tenue crystallinum in substratum crystallinum cum certae orientationis relatione, eandem vel similem ......
Lege plus