Tantalum Carbide Guide Ring

VeTek Semiconductor fabricator professionalis et dux Tantalum Carbide Guida Ringi producta in Sinis est. Nostra Tantalum Carbide (TaC) Guide Ring est summus anulus faciendi componentis carbide tantalum facta, quae vulgo in instrumento processus semiconductoris adhibetur, praesertim in ambitus summus temperatus et valde corrosivus ut CVD, PVD, engraving et diffusio. VeTek Semiconductor committitur ad technologiam provectam et ad solutiones productorum pro semiconductoris industriae providendis, et tuas ulteriores inquisitiones recipit.

Mitte Inquisitionem

depictio producti

VeTek SemiconductorTantalum Carbide Guide Ringficti ex *graphiteetTantalum carbide obductisita compositum est, ut optimas proprietates utriusque materiae pressionibus invigilet ad praestantiorem observantiam et longitudinis vitam.

TheTaC coatingin Tantalum Carbide Guide Ring efficit ut chemica pigra maneat in atmosphaerae reactivae fornacibus crystalli SiC incrementi, qui saepe gasi ut hydrogenii, argonis et nitrogeni involvunt. Haec inertia chemica vitalis est ne aliqua contagione crystalli crescentis, quae defectibus deducere posset, et effectibus finalibus semiconductoris productis imminutis. Accedit, thermarum stabilitas a TaC coatingis permittit Tantalum Carbide Coating Guide Ring ut efficaciter operandi in calidis temperaturis quae requirunturSic crystallum incrementum, typice excedentes 2000°C.

Accedit, compositum graphite et TaC in Tantalum Carbide Coating Ring optimiza scelerisque administratione intra fornacem cristallum incrementum. Graphite princeps scelerisque conductivity efficienter caloris distribuit, ne hotspots et incrementum uniforme crystalli promoveat. Interim Tantalum Carbide efficiens obice scelerisque inservit, nucleum graphitum protegens a directa expositione ad altas temperaturas et vapores reactivos. Haec synergia inter nucleum et materias efficiens consequitur in anulo duce, qui non solum graues crystalli SiC incrementi condiciones sustinet, sed etiam altiorem processus efficientiam et qualitatem auget.

Mechanica proprietates VeTek Semiconductor Tantalum Carbide gestationem magnopere minuunt et in Tantalum Carbide Coating Ringunt. Hoc pendet ex natura repetitacrystal incrementum processusquae duce anulum ad frequentes cyclos thermas et ad passiones mechanicas exponit. Tantalum duritia carbidis et resistentia induunt ut dux anulus suam integritatem structuram ac definitas dimensiones per longas aetates teneat, necessariam obscuratis crebris supplementis et temporis in processu fabricando minuendo.

VeTek SemiconductorTantalum Carbide Coating Guide Ring elementum essentiale est in industria semiconductoris, speciei ad incrementum ipsius destinatum.Pii Carbide crystallis. Consilium eius vires graphitae et tantalum carbidi iungit ut eximiam observantiam in summus temperatura, summus accentus ambitus liberaret. TaC efficiens efficit inertiam chemicam, durabilitatem mechanicam, et stabilitatem scelerisque, quae omnia critica sunt ad cristallum quale SiC producendum. Ductor anulus suam integritatem et functionem sub extrema condicione conservando sustinet efficientem et defectum liberorum incrementi crystallorum SiC, ad promotionem altae potentiae ac frequentiae semiconductoris machinas conferens.

Tantalum carbide (TaC) efficiens microscopic cross-sectioni:

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1

Corporalis proprietatibus TaC coating:

Corporalis proprietatibus TaC coating
Density	14.3 (g/cm³)
Imprimis emissivity	0.3
Scelerisque expansion coefficientes	6.3*10^-6/K
Duritia (HK)	2000 HK
Resistentia	1×10^-5Ohm* cm
Scelerisque status	<2500℃
Graphite magnitudine mutationes	-10~-20um
Crassitudo coating	≥20um valorem typicum (35um±10um)