Sinae Sic Epitaxy Processus fabrica, supplementum, Factory

VeTek Semiconductor unica carbida tunicarum superiorum tutelam partium graphitarum in Processu SiC Epitaxy praebent pro processu exigendi materias semiconductores et compositas semiconductores. Effectus graphite extenditur ad vitam componentem, conservationem reactionis stoichiometriae, inhibitionis immunditiae migrationis ad epitaxiam et cristallum applicationum incrementum, inde in aucta cede et qualitate.

Nostra tantalum carbida (TaC) coatings fornacem criticam et reactorem partium in calidis calidis (usque ad 2200°C) custodiunt, ab ammoniacis calidis, hydrogenii, vaporibus et metallis liquefactis. VeTek Semiconductor amplis graphite processui et mensurae facultates habet ad occursum tuum requisitis nativus, ut mercedem fucatam vel plenam servitutem offerre possimus, cum machinarum peritiarum turma nostra parata est ad solutionem rectam pro te ac applicatione tua specifica. .

Compone semiconductor crystallorum

VeTek Semiconductor specialem TaC coatings variis componentibus et vectoribus praebere potest. Per VeTek Semiconductoris industriam efficiens processum ducens, TaC coating potest altam puritatem, caliditatem stabilitatem et altam chemicam resistentiam obtinere, ita productum qualitatem crystalli TaC/GaN) et EPl stratis emendans, et vitam reactoris criticae componentium amplificans.

Scelerisque insulators

SiC, GaN et AlN cristallum incrementum componentium cum vasculis, seminibus detentoribus, deflectentibus et sparguntur. Congregationes industriales inter elementa calefacientia resistentia, nozzles, annulos protegentes et adfixa aerea, GaN et SiC epitaxiales CVD reactor componentes inter laganum baiulum, scuta satelles, capita imbres, pileos et bases, MOCVD composita.

Propositum:

DUXERIT (Lux Emittens Diode) Wafer Portitorem

ALD(Semiconductor) Susceptor

EPI Susceptor(SiC Epitaxy Process)

TaC iactaret Satellite Susceptor TaC Coating Susceptor & Ring TaC Coating partes Halfmoon Parts with TaC Coating

Comparatio SiC Coating et TaC Coating:

	Sic	Tac
Marisque	Ultra puritatem, Excellens Plasma resistentia	Excellent caliditas stabilitatis (conformantia processus caliditas)
Puritas	>99.9999%	>99.9999%
Densitas (g/cm III)	3.21	15
Duritia (kg/mm 2)	2900-3300	6.7-7.2
Resistentia [Ωcm]	0.1-15,000	<1
Scelerisque conductivity (W/m-K)	200-360	22
Coefficiens expansio scelerisque (10-6/)	4.5-5	6.3
Applicationem	Semiconductor Equipment Ceramic fig (Focus Ring, Shower Head, Dummy Wafer)	SiC Unius crystalli incrementum, Epi, UV partes DUXERIT Equipment

View as

TaC Coating Heater

VeTek Semiconductor primarius est opificem et innovatorem TaC Coating calefacientis in Sinis. Productum hoc maxime altum est punctum liquescens (circiter 3880°C). Summum punctum liquescens TaC Coating Heater dat operam ad temperaturas maxime altas, praesertim in incremento gallium nitridorum (GaN) epitaxialium stratorum metalli organici in processu chemico vaporis depositionis (MOCVD). VeTek Semiconductor committitur ad solutiones technologias provectas et productas solutiones pro industria semiconductoris. Expectamus ad longum tempus socium in Sinis fieri.

Lege plus Mitte Inquisitionem

TaC Coated Chuck

Pro professionalis TaC Coated Chuck fabrica et elit in Sinis, Semiconductoris VeTek TaC Coating Chuck specialiter destinatur pro fornacibus semiconductoribus. Cum caliditate sua resistentia, inertia chemica et praestantia perficiendi, Vetek Semiconductoris technologiae porttitor technologiam certam solutionem praebet pro semiconductore fabricandi industria ut signa magni-qualitatis productionis curent. Credimus fructus nostros tibi technologias provectos et qualitates solutionum productorum efficere posse.

Lege plus Mitte Inquisitionem

TaC Coating Tube

Sicut professionalis TaC Coating Tube fabrica et elit in Sinis, Tubus VeTek Semiconductoris TaC tunicae clavis est componentes ad felicis incrementi carbidi siliconis singula crystalla. Cum caliditate sua resistentia, chemicae inertiae et praestantiae effectus, efficit ut praecipui crystallorum qualitates cum fructu constanti efficiantur. Crede solutiones nostras innovatas ad augendam tuam PVT methodum SiC processum cristallum accessum et optimos eventus.

Lege plus Mitte Inquisitionem

CVD TAC Coating

VeTek Semiconductor primarius est opificem, innovatorem et ducem CVD TAC Coing in Sinis. Multos annos in variis CVD TAC Coating producta positi fuimus ut operimentum CVD TaC coating, CVD TaC Orbis Coating, CVD TaC Coating tabellarius, etc. VeTek Semiconductor subsidia producti muneris ac satisfactoriis producti pretiis sustinet, et ad ulteriora tua expectat consultatio.

Lege plus Mitte Inquisitionem

TaC Coating Parce Part

VeTek Semiconductor est fabrica professionalis Plate TaC Coating et aliae TaC Coating partes parce in Sinis. TaC Coating principaliter adhibetur in processibus sicut carbide siliconis unius cristalli incrementi (PVT methodi), disci epitaxialis (inclusa epitaxia carbide pii, epitaxia LED), etc. Composita cum bono diuturno stabilitatis Tabulae TaC Coating, VeTek Semiconductoris TaC. Plate Coing facta est Probatio partium parcentium TaC Coing. Expectamus te diuturnum nostrum socium fieri.

Lege plus Mitte Inquisitionem

GaN on SiC epi susceptor

VeTek Semiconductor est fabrica professionalis GaN in SiC epi susceptoris, CVD SiC tunica, et CVD TAC COATING susceptoris graphitici in Sinis. Inter eos, GaN in SiC epi susceptor munere funguntur vitalis in processu semiconductoris. Per suam optimam scelerisque conductivity, caliditas processus capacitatis et stabilitatis chemicae, altam efficientiam et qualitatem materialem progressionis incrementi GaN epitaxialis efficit. Sincere nos expectamus ulteriorem consultationem tuam.

Lege plus Mitte Inquisitionem

<1 2 3 4 5...7 >

Pro professionalis Sic Epitaxy Processus fabrica et elit in Sinis, habemus officinam nostram. Utrum officia nativus ad proprias regionis tuae necessitates occurrere vel in Sic Epitaxy Processus in Sinis factas et longas emere voles, nuntium nobis relinquere potes.