SiC Coating Wafer Portitorem

Vetek Semiconductor speciales in fabricandis et praestandis laganum laganum SiC summus perficientur suppeditans et committitur ad solutiones technologiae provectae et ad solutiones productorum semiconductoris industriae faciendae.

In fabricando semiconductor, Vetek Semiconductor's SiC laganum laganum coating est clavis componentis in instrumento chemico vaporis (CVD), praesertim in instrumento chemico vaporum organico metallico (MOCVD) instrumento. Praecipuum eius munus est unum cristallum subiectum sustentare et calefacere ut epitaxialis iacuit uniformiter crescere possit. Hoc essentiale est ad fabricandum qualitatem semiconductorem machinarum summus.

Corrosio resistentiae SiC coatingis valde bona est, quae graphite basim a vaporibus corrosivis efficaciter tueri potest. Hoc maxime momenti est in ambitus caloris et mordax. Praeterea, scelerisque conductivity SiC materialis est etiam valde excellens, quae aequaliter potest calorem ducere et distributionem aequabilem temperare curare, ita incrementum qualitatem materiae epitaxialis augere.

SiC coating stabilitatem chemicam in caliditate et atmosphaera corrosiva conservat, problema de defectione coatingendi evitans. Potius, scelerisque expansio coefficiens SiC similis est cum graphite, qui quaestionem evitandam tunicae effusionis ob scelerisque expansionem et contractionem vitare potest, ac diuturnam stabilitatem et constantiam vestiendi curare.

Basic physica ofSiC Coating Wafer Portitorem:

Productio Shop:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry catena: