Quid est TaC Coating?

TaC Coating (Tantalum Carbide Coating) summus perficientur est materia efficiens processum vaporum chemicorum productorum. Ob egregias possessiones TaC efficiens extremas condiciones, late in processu vestibulum semiconductoris adhibetur, praesertim in instrumentis et componentibus quae caliditatem et fortem ambitum mordax requirunt. TaC Coing solet substratos tueri (ut graphites vel ceramicos) ab damno caliditas, vapores corrosivi et machinalis conterentes.

Product Features and Commoda

Maxime princeps scelerisque stabilitas:

Pluma descriptio: TaC coating punctum liquescens plus quam 3880°C habet et stabilitatem conservare potest sine compositione vel deformatione in environment calidissima valde.

Commodum: Hoc facit necessariam materiam in apparatu semiconductoris summus temperatus ut CVD TaC Coating et TaC Susceptor Coated, praesertim applicationes in MOCVD reactors, ut apparatum Aixtron G5.

Optimum corrosio resistentia:

Descriptio pluma: TaC inertiam chemica praevalida habet et efficaciter potest resistere exesi vaporum mordalium sicut chlorides et fluorides.

Commoda: In processibus semiconductoribus chemicis corrosivis valde implicatis, TaC Coating conservat apparatum partium ab impetu chemico, vitam servitutis prolongat et processum firmitatis meliorat, praesertim in applicatione Navis Carbide Wafer et aliorum clavorum partium.

Optimum mechanica duritia:

Pluma descriptio: Duritia TaC coating tam alta est quam 9-10 Mohs, quae resistit ad usum mechanicae et caliditas accentus.

Commodum: Princeps durities proprietas facit TaC Coating aptissima usui in altum indutum et altum accentus ambitus, ad diuturnum tempus stabilitatis et constantiae instrumentorum sub premiis conditionibus.

Humilis chemica reactivity:

Descriptio pluma: Ob inertiam chemicam, TaC Coating humilis reactivitatem ponere potest in ambitus caliditatis et non necessarias reactiones chemicas cum vaporibus reciprocis vitare.

Commodum: Hoc maxime interest in processu vestibulum semiconductoris quia puritatem processus in ambitu et qualitate materiae depositionis praestat.

Munus TaC Coating in processus semiconductoris

Clavis armorum components protegens:

Function description: TaC coating late in instrumentis fabricandis semiconductoris componentibus clavis adhibitis, ut TaC Susceptor Coated, quod opus est sub extrema condicione laborare. Per tunicam cum TaC, haec membra per longas temporis spatia temporis in caliditate caliditatis et in ambitu gas mordax sine laesione operari possunt.

Praetende apparatu vitae:

Function description: In apparatu MOCVD ut Aixtron G5, TaC Coating signanter augere potest firmitatem instrumentorum componentium et necessitatem reducere ad sustentationem et repositum propter corrosionem et lapsum.

Processus stabilitatis augendae:

Function description: In fabricando semiconductore, TaC Coating uniformitatem et constantiam in processu depositionis efficit, stabilitatem caliditatis et chemicae environment praebens. Hoc magni momenti est in processibus epitaxialibus incrementis, ut epitaxia siliconis et gallium nitride (GaN).

Improve processus efficientiam:

Munus descriptio: Per optimizing efficiens in superficie apparatum, TaC Coating potest emendare altiore efficacia processus, defectus rate minuere, et productum proventus augere. Hoc criticum est de fabricando altae praecisiones, altae materiae semiconductoris puritatis.

Princeps stabilitatis scelerisque, resistentiae corrosionis optimae, duritia mechanica et humilis chemica reactivitatis exhibita a TaC Coating in processui semiconductoris eam optimam electionem facit ad instrumentorum instrumentorum fabricam tuendam semiconductorem. Cum semiconductor industriae postulatio caliditas, alta puritas et efficax processus fabricandi pergit augere, TaC Coating latissime patet prospectus, praesertim in apparatu et processibus CVD TaC Coating involventium, TaC Susceptor Coated et Aixtron G5.

VeTek semiconductor Technologiae Co., LTD est primarius provisor materiae efficiens provectae pro industria semiconductoris. societas nostra focus in solutiones incisionis ad evolutionem industriae explicandam.

Praecipua nostra producta oblationes includunt CVD pii carbidam (SiC) tunicas, tantalum carbidam (TaC) tunicas, molem SiC, pulveris SiC, et materiae puritatis altae SiC, susceptoris graphitici SiC obductis, annulis preheatis, annulorum distringere TaC, partium lunaris, etc. ., puritas infra 5ppm, elit requisita occurrere possunt.

VeTek umbilicus semiconductor in technologia inciso-ore evolutionis technologiae et producti solutiones evolutionis pro industria semiconductoris.Nos ex animo speramus nos participes facti tui diu-terminus in Sina.