MOCVD LED Epi Susceptor

VeTek Semiconductor'sMOCVD LED Epi Susceptorcore est pars. In processu apparando machinis semiconductoris;MOCVD LED Epi Susceptornon solum suggestum calefactivum simplex, sed etiam instrumentum processus subtilitatis, quod altam incidit in qualitatem, incrementum rate, uniformitatem et alias rationes cinematographicae tenues.

De certis usibusMOCVD LED Epi Susceptorin processus semiconductoris haec sunt:

Substratum calefactio et uniformitas imperium:

MOCVD Epitaxy Susceptor adhibetur ad calefactionem uniformem praebendam, ut stabilitatem subiectam in incremento epitaxiali stabiliat. Hoc essentiale est ut membrana semiconductor obtineat qualitatem altae et in crassitudine et crystalli qualitatem epitaxialium stratorum per subiectam constantiam praestandi.

Support for Chemical Vapor Depositio (CVD) Reactor Cubicula:

Ut magna pars in CVD reactor, Susceptor depositionem compositorum metallorum organicorum in subiectorum sustinet. Iuvat accurate has compositiones in membranas solidas convertere ad materias semiconductores desideratas formandas.

Promovere gas distribution:

Consilium Susceptoris optimize potest fluxum distributionis gasorum in camera reactionis, ut reactionem gas contactus aequaliter substratae, ita ut uniformitatem et qualitatem epitaxialis membranae augeat.

Scias potes emere nativusMOCVD LED Epi Susceptorcooperantem a nobis expectamus. Si plura scire vis, statim nos consulere potes et in tempore respondebimus!

Basicae physicae proprietates CVD SiC coating:

Productio tabernas:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry catena：