Porous Ceramic Vacuum Chuck

Pro professionalem porosum Ceramicum Vacuum Chuck opificem et supplementum in Sinis, Vetek Semiconductoris vacui Ceramici Porosi Chuck factus est ex materia carbidi siliconis (SiC) materiae, quae optimum habet repugnantiam caliditatem, stabilitatem chemicam et vires mechanicas. Core nucleus necessaria est in processu vestibulum semiconductoris componentis. Excipe amplius percontationes tuas.

Mitte Inquisitionem

depictio producti

Vetek Semiconductor est fabrica Sinensium vacui Ceramici Ceramici Chuck, quae lagana silicon- lica vel alia subiecta per vacuum adsorptionem figere solebat, ut in dispensando has materias non transferat vel stamen. Vetek Semiconducto summus puritatem praebere potest porosos Ceramic Vacuum Chuck productos magno sumptu effectus. Gratum quaerendum est.

Vetek Semiconductor offert seriem excellentium productorum Porosi Ceramici Vacuum Chuck, specialiter destinatum ut occurrentibus requisitis semiconductoris moderni fabricandi. Hi tabellarii praestantem observantiam ostendunt in munditia, planitudine et custo- graphio gasi itineris.

Munditia singularis:

immunditia eliminationis: Singulum porosum Ceramicum Vacuum Chuck ad 1200°C sinteratum per 1.5 horas ad immunditias penitus removendas et ut superficies tam munda ac nova sit.

Vacuum packaging: Ad purum statum conservandum, Porosum Ceramicum Vacuum Chuck vacuum est involucrum ne contagione in repositione et translatione.

Optimum idipsum:

Solidum Wafer Adsorption: Porosum Ceramicum Vacuum Chuck conservat adsorptionem vim -60kPa et -70kPa ante et post laganum collocationis, ita ut laganum firmiter adsorbeatur et impedit ne defluat in transmissione alta velocitate.

Subtilitas Machining: Tergum ferebat praecisio machinata ut superficies plana omnino curaret, inde sigillum vacuum servans et ultrices praecavendum.

Lorem Design:

Customer-centrica: Vetek Semiconductor arcte cum clientibus operatur ad figuras gasi iter designandas, quae occurrentes certis processibus requisitis ad efficientiam et effectum perficiendum.

Stricta Quality Testis:

Vetek pervestigationes comprehensivae in unaquaque parte nummorum pororum SiC Vacuum Chuck agit ut suam qualitatem curet;

Oxidation Test: Vacuum Chuck SiC cito ad 900°C calefit in ambitu libero oxygenii ad actuum oxidationis processum simulandum. Prius hoc, tabellarius annectitur 1100°C ut meliorem efficiat operam.

Metal Residuum Test: Ad contagione praecavendam, tabellarius in calore 1200°C calefactus est ut deprehenderet num aliquae immundities metalli praecipitatae sint.

Vacuum test: metiendo pressionis differentiam inter Rara SiC Vacuum Chuck cum lagano et sine lagano, ejus vacui obsignationis observantia stricte probata est. Discrimen pressionis intra ± 2kPa temperari debet.