Quid est Tantalum Carbide Coating?

Tantalum carbide (TaC) materia ceramica punctum liquescens usque ad 3880 habet et mixtum est cum puncto alto liquefacto et stabilitate chemica. Firmum in ambitus caliditas ponere potest. Praeterea habet etiam repugnantiam caliditatis, resistentiam chemicae corrosionis, et bonam convenientiam chemicae et mechanicae cum materia carbonis, faciens eam graphite idealem substratum tutelae materiae efficiens. 

Tantalum carbidum efficiens efficaciter tueri potest elementa graphitica ab effectibus ammoniae calidi, hydrogenii, vaporis pii, et metalli liquefacti in ambitus asperi usu, et signanter ad vitam componentium graphitarum inservientem extendens ac migrationem immunditiarum in graphite supprimendo, ad qualitatem procurandam.epitaxialetcrystal incrementum.

Figura 1. Tantalum commune Carbide Coated Components

Depositio vapor chemicus (CVD) est methodus perfectissima et optimalis ad efficiendum TaC tunicas in superficie graphita.

Usura TaCl5 et Propylene ut carbonis et tantalum fontes respective, et argon ut gas ferebat, vapor summus temperatus vanificatus TaCl5 in cameram reactionem introducitur. In scopum temperaturae et pressionis, praecursor vapor materialis in superficie graphite adsorbet, seriem reactionum chemicorum complexorum subiens, sicut compositione et compositione fontium carbonis et tantalum, necnon seriem reactionum superficierum sicut diffusionem et desorptionem. per-producta praecursoris. Demum stratum densum tutelae in superficie graphitae formatur, quae graphitum ab existentia stabili sub extremis condicionibus environmental tutatur et applicationem missionum graphitarum materiarum signanter dilatat.

Figura II.Depositio vapor chemicus (CVD) processus principii

VeTek Semiconductormaxime praebet tantalum carbide producta: TaC dux anulus, TaC tria petalis anulus obductis, TaC uasculum efficiens, TaC graphite raro graphiten efficiens late usus est processum cristallinum SiC processum; Porous Graphite cum TaC Coated, TaC Coated Guide Orbis, TaC Coated Graphite Wafer Portitorem, TaC coating susceptores, susceptor planetae, susceptor satelles taC obductis, Et hae tantalum carbide productorum efficiens late in usu sunt.Sic processus epitaxyetSiC Single Crystal Incrementum Processus.

Figura III.VeTek Semiconductor's Popular Tantalum Carbide Coating Products