MOCVD Susceptor cum TaC Coating

VeTek Semiconductor comprehensivus involutus est in investigatione, evolutione, productione, consilio et venditio partium tunicarum TaC et SiC. Nostra peritia est in productione civitatis artis MOCVD Susceptor cum TaC Coating, quae munus vitale in processu epitaxi ducitur. Gratum est quod percontationes et informationes ulterius discutias.

Mitte Inquisitionem

depictio producti

VeTek Semiconductor primarius est fabrica Sinica, supplementa et exportator specialiter in MOCVD Susceptor cum TaC Coating. Gratus es venire ad officinam nostram ut emendo novissimam venditionem, parvo pretio, et qualitatem MOCVD Susceptores cum TaC Coating. Expectamus cooperante.

DUXERIT epitaxy facies provocat ut qualitatem crystalli temperantia, materia delectu et adaptatio, ratio structuralis et optimiizationis, processus temperantiae et constantiae, ac levis extractio efficientiam. Tabellarius laganum rectum epitaxiam eligens materiale crucialus est, et cum tantalum carbide (TaC) pellicula tenuissima (TaC coating) commodis additis praebet.

Cum tabellio epitaxy laganum materia deligeret, plures factores clavium considerari debent;

Temperatura tolerantia et stabilitas chemicae: DUXERIT processuum epitaxy temperaturas altas involvunt et usum oeconomiae implicare possunt. Ideo necesse est eligere materias cum tolerantia et temperantia chemicae ad bonam temperiem stabilitatem efficere ut ferebat in summus temperatus et chemicus ambitus.

Planities superficies et resistentia induunt: Superficies epitaxiae lagani ferebat bonam esse planiciem ut aequabilem contactum ac firmum incrementum epitaxy laganum curare debet. Insuper resistentiam gerunt momenti est ad praecavendam damnum et abrasionem superficies.

Conductivity scelerisque: Eligentes materiam cum bonis scelerisque conductivity adiuvat dissipare calorem efficaciter, stabilis incrementum temperationis stabilis pro epitaxy iacuit et processus stabilitatis et constantiae melioris.

Hac de re tabellarius cum TaC efficiens epitaxy laganum praebet sequentia commoda:

Summus temperaturae stabilitas: TaC coating ostendit praeclaram stabilitatem summus temperatura, permittens eam suam structuram et observantiam conservare in processibus epitaxis summus temperatus et tolerantiam superiorem temperaturae praebens.

Firmitudo chemica: TaC coatingis a communibus oeconomiae et atmosphaerae corrosioni repugnat, tabellarium ab chemicis degradationibus muniens et eius vetustatem augens.

Duritia et indumenti resistentia: TaC coating duritiem altam habet et resistentiam induunt, superficies epitaxy lagani ferebat roborans, damnum et togam minuens et eius restem prolongans.

Scelerisque conductivity: TaC coating demonstrat bonum scelerisque conductivity, auxilium in calore dissipationis, stabilis incrementum temperaturae epitaxy iacuit conservans, et processus stabilitatis et constantiae melioris.

Itaque tabellarium laganum epitaxy eligens cum taC efficiens adiuvat interpellare provocationes epitaxy DUXERIT, occurrens exigentiis summus temperatus et chemicus ambitus. Haec efficiens commoda praebet ut summus temperaturae stabilitas, chemicae stabilitas, durities et resistentia induantur, et conductivity scelerisque, ad meliorationem perficiendam, restem, et efficientiam productionis lagani epitaxy ferebat.

Praecipua corporis proprietates TaC coating:

Corporalis proprietatibus TaC coating
Density	14.3 (g/cm³)
Imprimis emissivity	0.3
Scelerisque expansion coefficientes	6.3 10-6/K
Duritia (HK)	2000 HK
Resistentia	1×10-5 Ohm*cm
Scelerisque status	<2500℃
Graphite magnitudine mutationes	-10~-20um
Crassitudo coating	≥20um valorem typicum (35um±10um)